技术亮点： 加工效率高：沉积速率最高可达1μm/h，为磁过滤电弧技术的5倍 沉积温度低：可室温沉积，适用于橡胶、尼龙、塑料等耐温性不高的非金属材料 薄膜光洁度高：从源头消除传统技术易存在的大颗粒污染，制备薄膜的粗糙度低 绿色环保：加工过程中无任何固、液废排放，环境友好，可替代电镀
序号
技术指标
参数
1
序号
技术指标
参数
1
技术亮点：
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序号 |
技术指标 |
参数 |
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1 |
可安装靶材数量 |
配置6个通用接口，可按需配置平面靶及离子源数量 |
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2 |
有效镀膜区 |
Φ（500~800mm）ÍH(400~1000mm) |
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3 |
转盘承重 |
400~1200KG |
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4 |
最大加热温度 |
450℃ |
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5 |
镀膜周期 |
1-10h/炉 |
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6 |
技术特点 |
高能脉冲电弧、非平衡磁控溅射、宽缝离子源 |
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7 |
应用范围 |
TiN、CrN等陶瓷涂层，DLC类金刚石涂层 |
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8 |
设备功率 |
按需定制60~120KW |
